聯電去年每股賺1.01元 28奈米製程良率有進展

作者: 鉅亨網記者尹慧中 台北 | 鉅亨網 – 2014年1月24日 下午6:11

聯電(2303-TW)(UMC-US)今(24)日公佈2013年第4季財務報告,單季毛利率為18.1%,營業利益率為0.6%,歸屬母公司淨利為新台幣7.5億元,每股普通股獲利為新台幣0.06元;累計去年全年每股賺1.01元。聯電強調,28奈米製程良率已有更好的進展。

聯電2013年第4季營業收入為新台幣307.2億元,季減少8.0%,較去年同期的新台幣288.5億元成長6.5%。而歸屬母公司淨利為新台幣7.5億元,每股普通股獲利為新台幣0.06元;累計去年全年每股賺1.01元。

聯電執行長顏博文表示,2013年第4季整體營運表現符合預期,其中晶圓專工業務的營業收入為新台幣285.8億元,營業利益率為2.7%,約當八吋晶圓出貨量123.6萬片,產能利用率為79%。

顏博文補充,2013第4季該公司40奈米與以下製程營收佔晶圓專工營業額達到24%。持續性的成長歸因於聯電40奈米製程涵蓋廣泛的應用產品市場,被多家客戶所採用。在特殊技術方面,聯電也不斷樹立嶄新的里程碑,近期宣布的55nm嵌入式高壓製程在一年內即累積超過1500萬顆晶片的出貨量,聯電工程團隊並進一步微縮SRAM cell面積,以協助現今智慧型手機能擁有更高解析度,並致力於持續推進55奈米與以下製程特殊技術的極限。而28奈米製程的良率已有更好的進展,將有更多客戶產品採用。

另外,他說,為了強化28奈米設計平台,聯電也宣布針對28HLP高效能低功耗製程提供ARM Artisan實體IP平台,此製程具備晶方尺寸,速度,漏電流的平衡,是低功耗應用產品的理想選擇,藉由此次與ARM合作,納入其POP IP核心硬化加速技術,可強化聯電28奈米HLP平台,讓採用此28HLP製程客戶能夠縮短產品上市時程。

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